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PS版曬版機(jī),二次曝光.采用強(qiáng)力雙層雙回路抽氣方式，真空由中央向四周均勻擴(kuò)散，抽氣速度比一般曬版機(jī)提高70%（任何版材1分鐘內(nèi)均可達(dá)到曝光要求），網(wǎng)點(diǎn)不失真,光均勻度達(dá)到96%以上。
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