半導體行業超純水設備采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm

半導體行業防氧化真空干燥箱

半導體行業產品清洗用超純水設備規格主要是分離溶液中的離子范圍，它無需加熱，更沒有相變過程，因此比傳統的方法能耗低。用反滲透裝置，處理工業用水，不耗用大量酸堿，無二次污染，它的運行費用也比較低。反滲透膜分離技術，簡稱RO技術。

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采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水經濟，環保的超純水制備工藝

超聲波清洗器具有清洗效果好、速度快、噪音低、穿透性、滲透性強、環保等優點。主要適用于高校、電子行業、科研單位、商業等的小批量清洗、乳化、脫氣、混勻、消泡及細胞粉碎。

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全自動過濾器超純水制造技術在半導體行業中的應用：由于半導體制造行業對超純水的水質要求很 高，故在純水箱后輸送管道上增加拋光混床，可保證 超純水系統產水的穩定性和一致性。

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