
该技术原理如下:在真空室内采用真空弧光放电技术,在阴极材料表面产生弧光,使阴极材料蒸发,形成原子和离子。在电场作用下,原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体,即可在工件表面形成具有X良性能的镀层。阴极材料(也称靶材)一般采用钛、铬、锆等金属,常用反应气体为氮气和碳氢化合物气体。获得的镀层有TiN、CrN、TiC、ZrN等。
真空离子镀技术具有下列X点:
(1)可获得高硬度的镀层,镀层摩擦系数小,耐磨性高。
(2)镀层化学稳定性好,抗高温氧化,耐蚀性好。
(3)镀层美观。可获得如18K金的金黄色色泽及其它彩色膜。
(4)镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层,镀层不易剥落。
(5)生产过程对环境无污染。镀层形成速度快,节电、节水。
镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层,镀层不易剥落。
镀层厚度:3~5.6μm。
镀层硬度:1300~1800HV
附着力(耐磨力):在酸碱较弱的条件下,一般可保证10以上不会退色
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