【EDI高純水設(shè)備】主要是分離溶液中的離子范圍，它無需加熱，更沒有相變過程，因此比傳統(tǒng)的方法能耗低。用反滲透裝置，處理工業(yè)用水，不耗用大量酸堿，無二次污染，它的運(yùn)行費(fèi)用也比較低。反滲透膜分離技術(shù)，簡稱RO技術(shù)。

EDI 高純水制取設(shè)備采用成熟、可靠、先進(jìn)、自動(dòng)化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。 高純水制取設(shè)備系統(tǒng)穩(wěn)定性高

在電壓梯度的作用下，水會發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-，這些H+和OH-對離子膜中間的陰、陽離子不斷地進(jìn)行了再生，使得純水度越來越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。

超純水器制備超純水的原理和步驟大體如下： 1.原水：可用自來水或普通蒸餾水或普通去離子水作原水。 2.機(jī)械過濾：通過砂芯濾板和纖維柱濾除機(jī)械雜質(zhì)，如鐵銹和其他懸浮物等。

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EDI 技術(shù)是將兩種已經(jīng)很成熟的水凈化技術(shù)——電滲析和離子交換相結(jié) 合，通過這樣的技術(shù)更新，溶解的鹽可以在低能耗的條件下被去除，且不需 要化學(xué)再生，并生產(chǎn)出高質(zhì)量的除鹽水

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因此，EDI 使水質(zhì)穩(wěn)定。同時(shí)，也最大限度地降低了 設(shè)備投資和運(yùn)行費(fèi)用。

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半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。029-89181132

IONPURE IPLX最新科技可即時(shí)提供高純度純水，而且無需像傳統(tǒng)的混床離子交換樹脂設(shè)計(jì)使用強(qiáng)酸或強(qiáng)堿等化學(xué)物質(zhì)來進(jìn)行再生，不僅可節(jié)省酸堿費(fèi)用及廢水處理支出更符合工程安裝及環(huán)保要求。

供應(yīng)EDI高純水設(shè)備

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